আইওন বিম পলিশিং মেশিন
পারমাণবিক স্তরের নির্ভুলতা · যোগাযোগহীন প্রক্রিয়াকরণ · অতি মসৃণ পৃষ্ঠতল

আইওন বিম পোলিশিং মেশিনের প্রোডাক্ট ওভারভিউ
 

সিএনসি আইওন বিম ফিগারিং/পোলিশিং মেশিন নীতির উপর কাজ করেআয়ন স্পট্রিংভ্যাকুয়াম অবস্থার অধীনে, আয়ন উৎস একটি প্লাজমা রে উৎপন্ন করে, যা একটি আয়ন রেতে ত্বরান্বিত হয় যা পারমাণবিক স্তরের উপাদান অপসারণের জন্য ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠকে বোমা করে।যা অপটিক্যাল উপাদানগুলির অতি-নির্ভুলতা তৈরি করতে সক্ষম করে.

এই প্রযুক্তিযোগাযোগবিহীন প্রক্রিয়াকরণ, যান্ত্রিক চাপ বা ভূগর্ভস্থ ক্ষতি থেকে মুক্ত, এবং জ্যোতির্বিজ্ঞান, মহাকাশ, অর্ধপরিবাহী এবং বৈজ্ঞানিক গবেষণায় উচ্চ-নির্ভুলতার অপটিক্সের জন্য আদর্শ।

কার্যকরী নীতিআইওন বিম পলিশিং মেশিনের

• আয়ন জেনারেশনভ্যাকুয়াম চেম্বারে ইনার্ট গ্যাস (যেমন, আর্গন) প্রবেশ করা হয় এবং একটি বৈদ্যুতিক নিষ্কাশন ক্ষেত্র দ্বারা ionized হয়।

• আইওন ত্বরণ ও রশ্মি গঠন∙ আইয়নগুলি শত শত বা হাজার হাজার ইলেকট্রন ভোল্ট (ইভি) পর্যন্ত ত্বরান্বিত হয় এবং ফোকাসিং অপটিক্সের মাধ্যমে একটি স্থিতিশীল মরীচি স্পটে রূপান্তরিত হয়।

• উপাদান অপসারণ∙ আইওন রে রাসায়নিক বিক্রিয়া ছাড়াই শারীরিকভাবে পৃষ্ঠের পরমাণু স্পট করে।

• ত্রুটি পরিমাপ এবং পথ পরিকল্পনা∙ পৃষ্ঠের চিত্রের ভুলগুলি ইন্টারফেরোমেট্রি ব্যবহার করে পরিমাপ করা হয়, তারপরে বিমল থাকার সময় গণনা করতে এবং প্রক্রিয়াজাতকরণের পথ তৈরি করতে অপসারণ ফাংশনগুলি ব্যবহার করা হয়।

• বন্ধ লুপ সংশোধনRMS/PV লক্ষ্যমাত্রা অর্জন না হওয়া পর্যন্ত প্রক্রিয়াজাতকরণ এবং পরিমাপ চক্রগুলি পুনরাবৃত্তি করা হয়।

সরঞ্জামের বৈশিষ্ট্যআইওন বিম পলিশিং মেশিনের

• যোগাযোগহীন প্রক্রিয়াকরণ√ সব ধরনের পৃষ্ঠের আকার পরিচালনা করতে সক্ষম

• স্থিতিশীল অপসারণ হার️ সাব-ন্যানোমিটার ফিগার সংশোধন সঠিকতা

• ভূগর্ভস্থ কোন ক্ষতি নেইঅপটিক্যাল অখণ্ডতা বজায় রাখে

• উচ্চ ধারাবাহিকতাবিভিন্ন কঠোরতার উপাদানগুলির মধ্যে ন্যূনতম ওঠানামা

• নিম্ন/মাঝারি ফ্রিকোয়েন্সি সংশোধন✓ মাঝারি উচ্চ ফ্রিকোয়েন্সির ত্রুটির উত্পাদন নেই

• কম রক্ষণাবেক্ষণ খরচ√ দীর্ঘমেয়াদী অবিচ্ছিন্ন অপারেশন এবং সর্বনিম্ন ডাউনটাইম

সরঞ্জাম প্রক্রিয়াকরণ ক্ষমতাআইওন বিম পলিশিং মেশিনের

উপলব্ধ পৃষ্ঠতলঃ

• সহজ অপটিক্যাল উপাদানঃ সমতল, গোলক, প্রিজম

• জটিল অপটিক্যাল উপাদানঃ সিমেট্রিক/অসিমেট্রিক এস্ফিয়ার, অ্যাক্সিস-অফ-এস্ফিয়ার, সিলিন্ডারিক পৃষ্ঠ

• বিশেষ অপটিক্যাল উপাদানঃ অতি পাতলা অপটিক্স, স্ল্যাট অপটিক্স, আধা গোলাকার অপটিক্স, কনফর্মাল অপটিক্স, ফেজ প্লেট, ফ্রিফর্ম পৃষ্ঠতল, অন্যান্য কাস্টম আকার

উপলভ্য উপকরণ:

• সাধারণ অপটিক্যাল গ্লাসঃ কোয়ার্টজ, মাইক্রোক্রিস্টালাইন, কে৯ ইত্যাদি।

• ইনফ্রারেড অপটিক্সঃ সিলিকন, জার্মানিয়াম ইত্যাদি।

• ধাতুঃ অ্যালুমিনিয়াম, স্টেইনলেস স্টিল, টাইটানিয়াম খাদ ইত্যাদি।

• ক্রিস্টাল উপকরণঃ YAG, একক-ক্রিস্টাল সিলিকন কার্বাইড ইত্যাদি।

• অন্যান্য কঠিন/ভাঙা উপাদানঃ সিলিকন কার্বাইড ইত্যাদি

পৃষ্ঠের গুণমান / নির্ভুলতাঃ

• PV < 10 nm

• আরএমএস ≤ ০.৫ এনএম

পণ্যের সুবিধাআইওন বিম পলিশিং মেশিনের

• পরমাণু স্তরের অপসারণের নির্ভুলতা✓ চ্যালেঞ্জিং অপটিক্যাল সিস্টেমের জন্য অতি মসৃণ পৃষ্ঠের অনুমতি দেয়

• বহুমুখী আকৃতি সামঞ্জস্যপ্লেন অপটিক্স থেকে জটিল ফ্রিফর্ম পর্যন্ত

• বিস্তৃত উপাদান অভিযোজনযোগ্যতা✅ সুনির্দিষ্ট স্ফটিক থেকে কঠিন সিরামিক এবং ধাতু পর্যন্ত

• বড় ডিসপ্লে ক্ষমতা৪০০০ মিমি পর্যন্ত প্রসেস অপটিক্স

• বর্ধিত স্থিতিশীল অপারেশনভ্যাকুয়াম চেম্বারের রক্ষণাবেক্ষণ ছাড়া ৩-৫ সপ্তাহ চলবে

আইওন বিম পোলিশিং মেশিনের সাধারণ মডেল

• IBF350 / IBF750 / IBF1000 / IBF1600 / IBF2000 / IBF4000

• গতি অক্ষঃ 3-অক্ষ / 5-অক্ষ

• সর্বাধিক ওয়ার্কপিসের আকারঃ Φ4000 মিমি পর্যন্ত

কেস ১ √ স্ট্যান্ডার্ড ফ্ল্যাট মিরর

• ওয়ার্কপিসঃ D630 মিমি কোয়ার্টজ ফ্ল্যাট

• ফলাফলঃ PV 46.4 nm; RMS 4.63 nm

​​

কেস ২ ∙ এক্স-রে রিফ্লেক্টিভ মিরর

• ওয়ার্কপিসঃ 150 × 30 মিমি সিলিকন ফ্ল্যাট

• ফলাফলঃ PV 8.3 nm; RMS 0.379 nm; ঢাল 0.13 μrad

​

মামলা ৩ ০ অক্ষের বাইরে আয়না

• ওয়ার্কপিসঃ D326 মিমি অক্ষের বাইরে গ্রাউন্ড মিরর

• ফলাফলঃ PV 35.9 nm; RMS 3.9 nm

আইওন বিম পোলিশিং মেশিনের অ্যাপ্লিকেশন ক্ষেত্র

• জ্যোতির্বিজ্ঞানের অপটিক্সবড় টেলিস্কোপের প্রাথমিক/দ্বিতীয় আয়না

• স্পেস অপটিক্সউপগ্রহের মাধ্যমে দূরদর্শন, গভীর মহাকাশ চিত্রগ্রহণ

• উচ্চ ক্ষমতাসম্পন্ন লেজার সিস্টেমআইসিএফ অপটিক্স, বিম শেপিং

• সেমিকন্ডাক্টর অপটিক্সলিথোগ্রাফি লেন্স এবং আয়না

• বৈজ্ঞানিক যন্ত্রপাতিএক্স-রে/নিউট্রন মিরর, মেট্রোলজি স্ট্যান্ডার্ড উপাদান