• 12 ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফার সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার 300 মিমি সাবস্ট্র্যাট 750 ± 25um 4H-N টাইপ ওরিয়েন্টেশন 100 উত্পাদন গবেষণা গ্রেড
  • 12 ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফার সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার 300 মিমি সাবস্ট্র্যাট 750 ± 25um 4H-N টাইপ ওরিয়েন্টেশন 100 উত্পাদন গবেষণা গ্রেড
  • 12 ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফার সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার 300 মিমি সাবস্ট্র্যাট 750 ± 25um 4H-N টাইপ ওরিয়েন্টেশন 100 উত্পাদন গবেষণা গ্রেড
  • 12 ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফার সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার 300 মিমি সাবস্ট্র্যাট 750 ± 25um 4H-N টাইপ ওরিয়েন্টেশন 100 উত্পাদন গবেষণা গ্রেড
12 ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফার সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার 300 মিমি সাবস্ট্র্যাট 750 ± 25um 4H-N টাইপ ওরিয়েন্টেশন 100 উত্পাদন গবেষণা গ্রেড

12 ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফার সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার 300 মিমি সাবস্ট্র্যাট 750 ± 25um 4H-N টাইপ ওরিয়েন্টেশন 100 উত্পাদন গবেষণা গ্রেড

পণ্যের বিবরণ:

উৎপত্তি স্থল: চীন
পরিচিতিমুলক নাম: ZMSH
সাক্ষ্যদান: Rohs

প্রদান:

ন্যূনতম চাহিদার পরিমাণ: 1
প্যাকেজিং বিবরণ: একক ওয়েফার ধারক
ডেলিভারি সময়: 2-4 সপ্তাহ
পরিশোধের শর্ত: টি/টি,
ভালো দাম যোগাযোগ

বিস্তারিত তথ্য

পলিটাইপ: 4 এইচ -সিক 6 এইচ- সিক ব্যাসার্ধ: 12 ইঞ্চি 300 মিমি
পরিবাহিতা: এন-টাইপ / আধা-ইনসুলেটিং ডোপান্ট: এন 2 (নাইট্রোজেন) ভি (ভ্যানডিয়াম)
ওরিয়েন্টেশন: <0001> অক্ষের বাইরে <0001> অক্ষের বাইরে 4° প্রতিরোধ ক্ষমতা: 0.০১৫ ~ ০.০৩ ওহম-সেমি (৪ এইচ-এন)
মাইক্রোপাইপ ঘনত্ব (এমপিডি): ≤10/সেমি 2 ~ ≤1/সেমি 2 টিটিভি: ≤ 25 মিমি
বিশেষভাবে তুলে ধরা:

4H-N সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার

,

12 ইঞ্চি সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার

,

৩০০ মিমি সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার

পণ্যের বর্ণনা

 

 

12 ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফার সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার 300 মিমি 750 ± 25um 4H-N টাইপ ওরিয়েন্টেশন 100 উত্পাদন গবেষণা গ্রেড

 

 

১২ ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফারের সংক্ষিপ্তসার

 

এই ১২ ইঞ্চি সিলিকন কার্বাইড (সিআইসি) ওয়েফারটি উন্নত সেমিকন্ডাক্টর অ্যাপ্লিকেশনের জন্য ডিজাইন করা হয়েছে, যার ব্যাসার্ধ ৩০০ মিমি, বেধ ৭৫০±২৫ মাইক্রোমিটার,এবং 4H-SiC এর একটি পলিটাইপ সহ 4H-N টাইপ ক্রিস্টাল ওরিয়েন্টেশন. গবেষণার-গ্রেড এবং উত্পাদন পরিবেশের মান পূরণের জন্য উচ্চ মানের উত্পাদন কৌশল ব্যবহার করে ওয়েফারটি উত্পাদিত হয়। এর শক্তিশালী বৈশিষ্ট্যগুলি এটিকে উচ্চ-শক্তির জন্য উপযুক্ত করে তোলে,উচ্চ তাপমাত্রা, এবং উচ্চ-ফ্রিকোয়েন্সি ডিভাইস, যা প্রায়শই বৈদ্যুতিক যানবাহন (ইভি), পাওয়ার ইলেকট্রনিক্স এবং আরএফ প্রযুক্তির মতো অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে ব্যবহৃত হয়।ওয়েফারের উচ্চতর কাঠামোগত অখণ্ডতা এবং সুনির্দিষ্ট স্পেসিফিকেশনগুলি ডিভাইস তৈরিতে উচ্চ ফলন নিশ্চিত করে, যা অত্যাধুনিক গবেষণা এবং শিল্প অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে সর্বোত্তম পারফরম্যান্স সরবরাহ করে।

 


 

 

১২ ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফারের ডেটা চার্ট

 

১২ইঞ্চি সিলিকন কার্বাইড (সিআইসি) সাবস্ট্র্যাট স্পেসিফিকেশন
গ্রেড জিরো এমপিডি উৎপাদন
গ্রেড ((Z গ্রেড)
স্ট্যান্ডার্ড উৎপাদন
গ্রেড ((পি গ্রেড)
ডামি গ্রেড
(ডি গ্রেড)
ব্যাসার্ধ ৩.০.০ মিমি
বেধ ৪ এইচ-এন 750 μm±15 μm 750 μm±25 μm
৪এইচ-এসআই 750 μm±15 μm 750 μm±25 μm
ওয়েফার ওরিয়েন্টেশন অক্ষের বাইরেঃ 4H-N এর জন্য <1120 >±0.5° দিকে 4.0°, অক্ষের উপরেঃ 4H-SI এর জন্য <0001>±0.5°
মাইক্রোপাইপ ঘনত্ব ৪ এইচ-এন ≤0.4 সেমি-২ ≤4 সেমি-২ ≤25 সেমি-২
৪এইচ-এসআই ≤5cm-2 ≤10 সেমি-২ ≤25 সেমি-২
প্রতিরোধ ক্ষমতা ৪ এইচ-এন 0০১৫-০.০২৪ ও.সি. 0.০১৫-০.০২৮ ও.সি.
৪এইচ-এসআই ≥1E10 Ω·cm ≥1E5 Ω·cm
প্রাথমিক ফ্ল্যাট ওরিয়েন্টেশন {10-10} ±5.0°
প্রাথমিক সমতল দৈর্ঘ্য ৪ এইচ-এন N/A
৪এইচ-এসআই খাঁজ
এজ এক্সক্লুশন ৩ মিমি
LTV/TTV/Bow/Warp ≤5μm/≤15μm/≤35μm/≤55μm ≤5μm/≤15μm/≤35
রুক্ষতা পোলিশ Ra≤1 nm
CMP Ra≤0.2 nm Ra≤0.5 nm
উচ্চ তীব্রতার আলোর কারণে প্রান্তের ফাটল
উচ্চ তীব্রতা আলো দ্বারা হেক্স প্লেট
উচ্চ তীব্রতা আলো দ্বারা পলিটাইপ এলাকা
ভিজ্যুয়াল কার্বন অন্তর্ভুক্তি

সিলিকন পৃষ্ঠ উচ্চ তীব্রতা আলো দ্বারা scratches
কোনটিই
সমষ্টিগত এলাকা ≤০.০৫%
কোনটিই
সমষ্টিগত এলাকা ≤০.০৫%
কোনটিই
সমষ্টিগত দৈর্ঘ্য ≤ ২০ মিমি, একক দৈর্ঘ্য ≤ ২ মিমি
সমষ্টিগত এলাকা ≤0.1%
সমষ্টিগত এলাকা≤৩%
সমষ্টিগত এলাকা ≤৩%
সমষ্টিগত দৈর্ঘ্য ≤ 1 × ওয়েফারের ব্যাসার্ধ
উচ্চ তীব্রতা আলো দ্বারা এজ চিপ কোনটিই অনুমোদিত নয় ≥0.2 মিমি প্রস্থ এবং গভীরতা 7 অনুমোদিত, প্রতিটি ≤ 1 মিমি
(টিএসডি)থ্রেডিং স্ক্রু লস ৫০০ সেমি-২ N/A
(বিপিডি)বেস প্লেনের বিকৃতি ১০০০ সেমি-২ N/A
এসআইলিকন পৃষ্ঠউচ্চ তীব্রতার আলোর দ্বারা দূষণ কোনটিই
প্যাকেজ মাল্টি-ওয়েফার ক্যাসেট বা সিঙ্গল ওয়েফার কনটেইনার
নোটঃ
১. ত্রুটি সীমাবদ্ধতা সীমানা সীমানা ব্যতীত পুরো ওয়েফারের পৃষ্ঠের জন্য প্রযোজ্য।
২. শুধু সি-ফেসেই স্ক্র্যাচগুলো পরীক্ষা করা উচিত।
৩। ডিসলোকেশন ডেটা শুধুমাত্র KOH খোদাই করা ওয়েফার থেকে পাওয়া যায়।

 

 


 

১২ ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফারের ছবি

 

 

12 ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফার সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার 300 মিমি সাবস্ট্র্যাট 750 ± 25um 4H-N টাইপ ওরিয়েন্টেশন 100 উত্পাদন গবেষণা গ্রেড 012 ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফার সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার 300 মিমি সাবস্ট্র্যাট 750 ± 25um 4H-N টাইপ ওরিয়েন্টেশন 100 উত্পাদন গবেষণা গ্রেড 1

 


 

১২ ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফারের বৈশিষ্ট্য

 

 

1.সিআইসির উপাদান বৈশিষ্ট্যঃ

  • প্রশস্ত ব্যান্ডগ্যাপ: SiC এর একটি বিস্তৃত ব্যান্ডগ্যাপ (~ 3.26 eV) রয়েছে, যা এটিকে প্রচলিত সিলিকন (Si) এর তুলনায় উচ্চতর ভোল্টেজ, তাপমাত্রা এবং ফ্রিকোয়েন্সিতে কাজ করার অনুমতি দেয়।
  • উচ্চ তাপ পরিবাহিতা: SiC এর তাপ পরিবাহিতা সিলিকনের তুলনায় অনেক বেশি (প্রায় 3.7 W/cm·K), এটি উচ্চ-শক্তির অ্যাপ্লিকেশনের জন্য উপযুক্ত যেখানে তাপ অপসারণ সমালোচনামূলক।
  • উচ্চ ব্রেকডাউন ভোল্টেজ: সিআইসি অনেক বেশি ভোল্টেজ (সিলিকনের তুলনায় 10 গুণ বেশি) পরিচালনা করতে পারে, যা এটিকে পাওয়ার ইলেকট্রনিক্সের জন্য আদর্শ করে তোলে, যেমন পাওয়ার ট্রানজিস্টর এবং ডায়োড।
  • উচ্চ ইলেকট্রন গতিশীলতা: SiC এর ইলেকট্রন গতিশীলতা ঐতিহ্যগত সিলিকনের তুলনায় বেশি, যা ইলেকট্রনিক ডিভাইসে দ্রুত সুইচিংয়ের সময়কে অবদান রাখে।

2.যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্যঃ

  • উচ্চ কঠোরতা: সিআইসি খুব কঠিন (মোহস কঠোরতা 9), যা এর পরিধান প্রতিরোধের অবদান রাখে তবে এটি প্রক্রিয়াজাতকরণ এবং মেশিনকে কঠিন করে তোলে।
  • শক্ততা: এর উচ্চ ইয়ং মডুলাস রয়েছে, যার অর্থ এটি সিলিকনের তুলনায় আরও শক্ত এবং দীর্ঘস্থায়ী, যা ডিভাইসে এর স্থিতিশীলতা বাড়ায়।
  • ভঙ্গুরতা: সিআইসি সিলিকনের চেয়ে বেশি ভঙ্গুর, যা ওয়েফার প্রক্রিয়াকরণ এবং ডিভাইস উত্পাদনের সময় বিবেচনা করা গুরুত্বপূর্ণ।

 


 

 

১২ ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফারের অ্যাপ্লিকেশন

 

 

12 ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফারগুলি প্রধানত উচ্চ-কার্যকারিতা পাওয়ার ইলেকট্রনিক্স, পাওয়ার এমওএসএফইটি, ডায়োড এবং আইজিবিটি সহ ব্যবহৃত হয়, যা শিল্পে দক্ষ শক্তি রূপান্তর সক্ষম করে যেমনবৈদ্যুতিক যানবাহন,পুনর্নবীকরণযোগ্য শক্তি, এবংশিল্প শক্তি সিস্টেম. SiC এর উচ্চ তাপ পরিবাহিতা, প্রশস্ত ব্যান্ডগ্যাপ এবং উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধ ক্ষমতা এটি অ্যাপ্লিকেশন জন্য আদর্শ করে তোলেঅটোমোবাইল ইলেকট্রনিক্স,পাওয়ার ইনভার্টার, এবংউচ্চ ক্ষমতাসম্পন্ন শক্তি সিস্টেম. এর ব্যবহারউচ্চ ফ্রিকোয়েন্সির আরএফ ডিভাইসএবংমাইক্রোওয়েভ যোগাযোগ ব্যবস্থাএছাড়াও এটি টেলিযোগাযোগ, এয়ারস্পেস এবং সামরিক রাডার সিস্টেমের জন্য অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ।

 

অতিরিক্তভাবে, SiC ওয়েফার ব্যবহার করা হয়এলইডি এবং অপটোইলেকট্রনিক্স, এর জন্য স্তর হিসাবে কাজ করেনীল এবং ইউভি এলইডি, যা আলোকসজ্জা, প্রদর্শন এবং জীবাণুমুক্তকরণের জন্য গুরুত্বপূর্ণ। কঠোর পরিবেশে উপাদানটির স্থিতিস্থাপকতা এটিকেউচ্চ তাপমাত্রা সেন্সর,চিকিৎসা সরঞ্জাম, এবংস্যাটেলাইট পাওয়ার সিস্টেম. এর ক্রমবর্ধমান ভূমিকাস্মার্ট গ্রিড,শক্তি সঞ্চয়, এবংবিদ্যুৎ বিতরণসিআইসি বিভিন্ন অ্যাপ্লিকেশনে দক্ষতা, নির্ভরযোগ্যতা এবং পারফরম্যান্স উন্নত করতে সহায়তা করছে।

 


 

১২ ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফারের প্রশ্নোত্তর

 

1.১২ ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফার কি?

উত্তর দাও: একটি 12 ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফার একটি সিলিকন কার্বাইড (সিআইসি) স্তর যা 12 ইঞ্চি ব্যাসার্ধের, প্রধানত অর্ধপরিবাহী শিল্পে ব্যবহৃত হয়, বিশেষ করে উচ্চ-শক্তি, উচ্চ তাপমাত্রা,এবং উচ্চ ফ্রিকোয়েন্সি অ্যাপ্লিকেশনসিআইসি উপাদানগুলি তাদের চমৎকার বৈদ্যুতিক, তাপীয় এবং যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্যগুলির কারণে পাওয়ার ইলেকট্রনিক্স, অটোমোটিভ ইলেকট্রনিক্স এবং শক্তি রূপান্তর ডিভাইসে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।

2.১২ ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফারের সুবিধা কি?

উত্তর দাও: ১২ ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফারের সুবিধার মধ্যে রয়েছে:

  • উচ্চ তাপমাত্রায় স্থিতিশীলতা: SiC 600°C বা তার বেশি তাপমাত্রায় কাজ করতে পারে, যা ঐতিহ্যগত সিলিকন উপকরণগুলির তুলনায় উচ্চ তাপমাত্রায় ভাল পারফরম্যান্স প্রদান করে।
  • উচ্চ ক্ষমতা হ্যান্ডলিং: সিআইসি উচ্চ ভোল্টেজ এবং বর্তমান সহ্য করতে পারে, এটি উচ্চ-শক্তি অ্যাপ্লিকেশন যেমন বৈদ্যুতিক যানবাহন ব্যাটারি ব্যবস্থাপনা এবং শিল্প শক্তি সরবরাহের জন্য উপযুক্ত।
  • উচ্চ তাপ পরিবাহিতা: সিলিকনের তুলনায় সিআইসির তাপ পরিবাহিতা উল্লেখযোগ্যভাবে বেশি, যা তাপ অপসারণে সহায়তা করে, ডিভাইসের নির্ভরযোগ্যতা এবং দক্ষতা উন্নত করে।

 

ট্যাগঃ১২ ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফার ১২ ইঞ্চি সিআইসি সাবস্ট্র্যাট
 

এই পণ্য সম্পর্কে আরও বিশদ জানতে চান
আমি আগ্রহী 12 ইঞ্চি সিআইসি ওয়েফার সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার 300 মিমি সাবস্ট্র্যাট 750 ± 25um 4H-N টাইপ ওরিয়েন্টেশন 100 উত্পাদন গবেষণা গ্রেড আপনি কি আমাকে আরও বিশদ যেমন প্রকার, আকার, পরিমাণ, উপাদান ইত্যাদি পাঠাতে পারেন
ধন্যবাদ!
তোমার উত্তরের অপেক্ষা করছি.