logo
ভালো দাম  অনলাইন

পণ্যের বিবরণ

Created with Pixso. বাড়ি Created with Pixso. পণ্য Created with Pixso.
সিলিকন কার্বাইড ওয়েফার
Created with Pixso.

১২ ইঞ্চি (৩০০ মিমি) সিলিকন কার্বাইড

১২ ইঞ্চি (৩০০ মিমি) সিলিকন কার্বাইড

ব্র্যান্ডের নাম: ZMSH
MOQ.: 1
মূল্য: by case
প্যাকেজিংয়ের বিবরণ: কাস্টম কার্টন
অর্থ প্রদানের শর্তাবলী: টি/টি
বিস্তারিত তথ্য
উৎপত্তি স্থল:
চীন
পলিটাইপ:
4 এইচ
ডোপিং টাইপ:
এন-টাইপ
ব্যাস:
300 ± 0.5 মিমি
বেধ:
সবুজ: 600 ± 100 µm / সাদা-স্বচ্ছ: 700 ± 100 µm
সারফেস ওরিয়েন্টেশন (অফ-কাট):
4° দিকে \<11-20\> ± 0.5°
TTV (মোট বেধের তারতম্য):
≤ 10 µm
যোগানের ক্ষমতা:
কেস দ্বারা
পণ্যের বিবরণ

12-ইঞ্চি সিলিকন কার্বাইড (SiC) ওয়েফার – পণ্যের পরিচিতি

পণ্যের সংক্ষিপ্ত বিবরণ

12-ইঞ্চি সিলিকন কার্বাইড (SiC) ওয়েফার হল পরবর্তী প্রজন্মের ওয়াইড ব্যান্ডগ্যাপ সেমিকন্ডাক্টর স্তর, যা উচ্চ-পারফরম্যান্স পাওয়ার ইলেকট্রনিক ডিভাইসগুলির বৃহৎ-স্কেল উত্পাদন সমর্থন করার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে। প্রচলিত 6-ইঞ্চি এবং 8-ইঞ্চি SiC ওয়েফারের সাথে তুলনা করলে, 12-ইঞ্চি ফরম্যাট উল্লেখযোগ্যভাবে প্রতি ওয়েফারে ব্যবহারযোগ্য চিপের ক্ষেত্রফল বৃদ্ধি করে, উত্পাদন দক্ষতা উন্নত করে এবং দীর্ঘমেয়াদে খরচ কমানোর সম্ভাবনা তৈরি করে।

 

সিলিকন কার্বাইড একটি ওয়াইড ব্যান্ডগ্যাপ সেমিকন্ডাক্টর উপাদান যা উচ্চ ব্রেকডাউন বৈদ্যুতিক ক্ষেত্র শক্তি, চমৎকার তাপ পরিবাহিতা, উচ্চ স্যাচুরেটেড ইলেকট্রন ড্রिफ्ट বেগ এবং অসামান্য তাপীয় স্থিতিশীলতা প্রদান করে। এই বৈশিষ্ট্যগুলি 12-ইঞ্চি SiC ওয়েফারকে উচ্চ-ভোল্টেজ, উচ্চ-ক্ষমতা এবং উচ্চ-তাপমাত্রার অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য একটি আদর্শ প্ল্যাটফর্ম করে তোলে।

 

১২ ইঞ্চি (৩০০ মিমি) সিলিকন কার্বাইড 0       ১২ ইঞ্চি (৩০০ মিমি) সিলিকন কার্বাইড 1


উপাদান এবং ক্রিস্টাল স্পেসিফিকেশন

  • উপাদান: একক-ক্রিস্টাল সিলিকন কার্বাইড (SiC)

  • পলিটাইপ: 4H-SiC (পাওয়ার ডিভাইসের জন্য স্ট্যান্ডার্ড)

  • পরিবাহিতা প্রকার:

    • N-টাইপ (নাইট্রোজেন ডোপড)

    • অর্ধ-ইনসুলেটিং (কাস্টমাইজযোগ্য)

12-ইঞ্চি SiC একক ক্রিস্টালগুলির বৃদ্ধিতে তাপমাত্রা গ্রেডিয়েন্ট, স্ট্রেস বিতরণ এবং অমেধ্য অন্তর্ভুক্তির উন্নত নিয়ন্ত্রণের প্রয়োজন। বৃহৎ-ব্যাসার্ধের, কম-ত্রুটিযুক্ত SiC বাউলের জন্য সাধারণত উন্নত PVT (ফিজিক্যাল ভেপার ট্রান্সপোর্ট) ক্রিস্টাল গ্রোথ প্রযুক্তি ব্যবহার করা হয়।

 

 


১২ ইঞ্চি (৩০০ মিমি) সিলিকন কার্বাইড 2

উত্পাদন প্রক্রিয়া

12-ইঞ্চি SiC ওয়েফারের উৎপাদনে বেশ কয়েকটি উচ্চ-নির্ভুল প্রক্রিয়া জড়িত:

  1. বৃহৎ-ব্যাসার্ধের একক-ক্রিস্টাল বৃদ্ধি

  2. ক্রিস্টাল ওরিয়েন্টেশন এবং ইনগট স্লাইসিং

  3. নির্ভুল গ্রাইন্ডিং এবং ওয়েফার থিনিং

  4. একক-পার্শ্ব বা দ্বৈত-পার্শ্ব পলিশিং

  5. উন্নত ক্লিনিং এবং ব্যাপক পরিদর্শন

প্রতিটি পদক্ষেপ চমৎকার ফ্ল্যাটনেস, পুরুত্বের অভিন্নতা এবং পৃষ্ঠের গুণমান নিশ্চিত করার জন্য কঠোরভাবে নিয়ন্ত্রণ করা হয়।

 


প্রধান সুবিধা

  • প্রতি ওয়েফারে উচ্চতর ডিভাইস ফলন: বৃহত্তর ওয়েফার আকার প্রতি রানে আরও চিপ তৈরি করে

  • উন্নত উত্পাদন দক্ষতা: পরবর্তী প্রজন্মের ফ্যাক্টরির জন্য অপ্টিমাইজ করা হয়েছে

  • খরচ কমানোর সম্ভাবনা: উচ্চ-ভলিউম উৎপাদনে প্রতি ডিভাইসে কম খরচ

  • শ্রেষ্ঠ তাপীয় এবং বৈদ্যুতিক কর্মক্ষমতা: কঠোর অপারেটিং অবস্থার জন্য আদর্শ

  • শক্তিশালী প্রক্রিয়া সামঞ্জস্যতা: প্রধান SiC পাওয়ার ডিভাইস তৈরির জন্য উপযুক্ত

 ১২ ইঞ্চি (৩০০ মিমি) সিলিকন কার্বাইড 3


সাধারণ অ্যাপ্লিকেশন

  • বৈদ্যুতিক যানবাহন (SiC MOSFETs, SiC Schottky diodes)

  • অন-বোর্ড চার্জার (OBC) এবং ট্র্যাকশন ইনভার্টার

  • ফাস্ট-চার্জিং অবকাঠামো এবং পাওয়ার মডিউল

  • সৌর ইনভার্টার এবং শক্তি সঞ্চয় সিস্টেম

  • শিল্প মোটর ড্রাইভ এবং রেলওয়ে সিস্টেম

  • উচ্চ-শ্রেণীর পাওয়ার ইলেকট্রনিক্স এবং প্রতিরক্ষা অ্যাপ্লিকেশন

 

১২ ইঞ্চি (৩০০ মিমি) সিলিকন কার্বাইড 4

 


সাধারণ স্পেসিফিকেশন (কাস্টমাইজযোগ্য)

আইটেম N-টাইপ উৎপাদন গ্রেড (P) N-টাইপ ডামি গ্রেড (D) SI-টাইপউৎপাদন গ্রেড (P)
পলিটাইপ 4H 4H 4H
ডোপিং প্রকার N-টাইপ N-টাইপ /
ব্যাস 300 ± 0.5 মিমি 300 ± 0.5 মিমি 300 ± 0.5 মিমি
বেধ সবুজ: 600 ± 100 µm / সাদা-স্বচ্ছ: 700 ± 100 µm সবুজ: 600 ± 100 µm / সাদা-স্বচ্ছ: 700 ± 100 µm সবুজ: 600 ± 100 µm / সাদা-স্বচ্ছ: 700 ± 100 µm
সারফেস ওরিয়েন্টেশন (অফ-কাট) 4° দিকে ± 0.5° 4° দিকে ± 0.5° 4° দিকে ± 0.5°
ওয়েফার আইডি / প্রাথমিক ফ্ল্যাট নচ (পূর্ণ-বৃত্তাকার ওয়েফার) নচ (পূর্ণ-বৃত্তাকার ওয়েফার) নচ (পূর্ণ-বৃত্তাকার ওয়েফার)
নচের গভীরতা 1.0 – 1.5 মিমি 1.0 – 1.5 মিমি 1.0 – 1.5 মিমি
TTV (মোট পুরুত্বের ভিন্নতা) ≤ 10 µm NA ≤ 10 µm
MPD (মাইক্রোপাইপ ঘনত্ব) ≤ 5 ea/cm² NA ≤ 5 ea/cm²
রেসিস্টভিটি পরিমাপ অঞ্চল: সেন্টার 8-ইঞ্চি এলাকা পরিমাপ অঞ্চল: সেন্টার 8-ইঞ্চি এলাকা পরিমাপ অঞ্চল: সেন্টার 8-ইঞ্চি এলাকা
Si-ফেস সারফেস ট্রিটমেন্ট CMP (পালিশ করা) গ্রাইন্ডিং CMP (পালিশ করা)
এজ প্রসেসিং চেমফার কোন চেমফার নেই চেমফার
এজ চিপস (অনুমোদিত) চিপ গভীরতা < 0.5 মিমি চিপ গভীরতা < 1.0 মিমি চিপ গভীরতা < 0.5 মিমি
লেজার চিহ্নিতকরণ C-সাইড চিহ্নিতকরণ / গ্রাহকের প্রয়োজনীয়তা অনুযায়ী C-সাইড চিহ্নিতকরণ / গ্রাহকের প্রয়োজনীয়তা অনুযায়ী C-সাইড চিহ্নিতকরণ / গ্রাহকের প্রয়োজনীয়তা অনুযায়ী
পলিটাইপ এলাকা (পোলারাইজড আলো) কোন পলিটাইপ নেই (এজ এক্সক্লুশন 3 মিমি) বহুরূপতা এলাকা < 5% (এজ এক্সক্লুশন 3 মিমি) কোন পলিটাইপ নেই (এজ এক্সক্লুশন 3 মিমি)
ফাটল (উচ্চ-তীব্রতা আলো) কোন ফাটল নেই (এজ এক্সক্লুশন 3 মিমি) কোন ফাটল নেই (এজ এক্সক্লুশন 3 মিমি) কোন ফাটল নেই (এজ এক্সক্লুশন 3 মিমি)

 


সাধারণ জিজ্ঞাস্য (FAQ)

প্রশ্ন ১: 12-ইঞ্চি SiC ওয়েফার কি ব্যাপক উৎপাদনের জন্য প্রস্তুত?
উত্তর: 12-ইঞ্চি SiC ওয়েফার বর্তমানে শিল্পায়নের প্রাথমিক পর্যায়ে রয়েছে এবং বিশ্বব্যাপী শীর্ষস্থানীয় নির্মাতারা পাইলট এবং ভলিউম উৎপাদনের জন্য সক্রিয়ভাবে মূল্যায়ন করছেন।

 

প্রশ্ন ২: 8-ইঞ্চি ওয়েফারের তুলনায় 12-ইঞ্চি SiC ওয়েফারের সুবিধা কি কি?
উত্তর: 12-ইঞ্চি ফরম্যাট উল্লেখযোগ্যভাবে প্রতি ওয়েফারে চিপের আউটপুট বৃদ্ধি করে, ফ্যাক্টরির থ্রুপুট উন্নত করে এবং দীর্ঘমেয়াদী খরচ সুবিধা প্রদান করে।

 

প্রশ্ন ৩: ওয়েফারের স্পেসিফিকেশন কাস্টমাইজ করা যাবে?
উত্তর: হ্যাঁ, পরিবাহিতা প্রকার, বেধ, পলিশিং পদ্ধতি এবং পরিদর্শন গ্রেডের মতো প্যারামিটার কাস্টমাইজ করা যেতে পারে।