| ব্র্যান্ডের নাম: | ZMSH |
| MOQ.: | 1 |
| মূল্য: | by case |
| প্যাকেজিংয়ের বিবরণ: | কাস্টম কার্টন |
| অর্থ প্রদানের শর্তাবলী: | টি/টি |
টিআই/সিউ ধাতব লেপযুক্ত সিলিকন ওয়েফারগুলি একটিটাইটানিয়াম (টিআই) আঠালো স্তরএর পরে একটিতামা (Cu) পরিবাহী স্তরউচ্চ মানের সাবস্ট্র্যাটে ব্যবহার করেস্ট্যান্ডার্ড ম্যাগনেট্রন স্পটারিং. টিআই স্তর ফিল্ম আঠালো এবং ইন্টারফেস স্থিতিশীলতা উন্নত, যখন Cu স্তর চমৎকার বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা প্রদান করে। একাধিক ওয়েফার আকার, পরিবাহিতা ধরনের, দিকনির্দেশ,প্রতিরোধ ক্ষমতা পরিসীমাগবেষণা এবং শিল্প প্রোটোটাইপিংয়ের জন্য সম্পূর্ণ কাস্টমাইজেশন সমর্থিত।
![]()
ফিল্ম স্ট্যাক: সাবস্ট্র্যাট +আঠালো স্তর (Ti)+লেপ স্তর (Cu)
ডিপোজিশন প্রক্রিয়া: স্ট্যান্ডার্ডম্যাগনেট্রন স্পট্রিং(ঐচ্ছিকঃ তাপীয় বাষ্পীভবন / অনুরোধ অনুযায়ী বৈদ্যুতিক প্রলেপ)
মূল বৈশিষ্ট্য: শক্তিশালী আঠালো, কম প্রতিরোধের পৃষ্ঠ, পরবর্তী লিথোগ্রাফি, বৈদ্যুতিন প্লাস্টিং বা ডিভাইস তৈরির জন্য উপযুক্ত।
![]()
| পয়েন্ট | স্পেসিফিকেশন / বিকল্প |
|---|---|
| ওয়েফারের আকার | 2", 4", 6", 8"; 10×10 মিমি টুকরা; কোন কাস্টম আকার উপলব্ধ |
| পরিবাহিতা প্রকার | পি-টাইপ, এন-টাইপ, অভ্যন্তরীণ উচ্চ প্রতিরোধ ক্ষমতা (Un) |
| ক্রিস্টাল ওরিয়েন্টেশন | <100>, <111> ইত্যাদি |
| প্রতিরোধ ক্ষমতা | নিম্নঃ < 0.0015 Ω·cm; মাঝারিঃ 1 ̊10 Ω·cm; উচ্চঃ > 1000 ̊10000 Ω·cm |
| সাবস্ট্র্যাটের বেধ (μm) | 2": 200 / 280 / 400 / 500 / প্রয়োজন অনুযায়ী; 4": 450 / 500 / 525 / প্রয়োজন অনুযায়ী; 6": 625 / 650 / 675 / প্রয়োজন অনুযায়ী; 8": 650 / 700 / 725 / 775 / প্রয়োজন অনুযায়ী |
| সাবস্ট্রেট উপাদান | সিলিকন (Si); অপশনালঃ কোয়ার্টজ, BF33 গ্লাস ইত্যাদি |
| স্ট্যাক গঠন | সাবস্ট্র্যাট + টিআই আঠালো স্তর + Cu লেপ |
| ডিপোজিশন পদ্ধতি | ম্যাগনেট্রন স্পট্রিং (স্ট্যান্ডার্ড); ঐচ্ছিকঃ তাপীয় বাষ্পীভবন / ইলেক্ট্রোপ্লেটিং |
| উপলব্ধ ধাতব ফিল্ম (শ্রেণী) | Ti/Cu; এছাড়াও পাওয়া যায়ঃ Au, Pt, Al, Ni, Ag, ইত্যাদি |
| ফিল্মের বেধ | ১০ এনএম, ৫০ এনএম, ১০০ এনএম, ১৫০ এনএম, ৩০০ এনএম, ৫০০ এনএম, ১ মাইক্রোমিটার ইত্যাদি (কাস্টমাইজযোগ্য) |
ওহ্মিক যোগাযোগ এবং ইলেক্ট্রোড: পরিবাহী স্তর, যোগাযোগ প্যাড, বৈদ্যুতিক পরীক্ষা
ইলেক্ট্রোপ্লেটিংয়ের জন্য বীজ স্তর: আরডিএল, মাইক্রোস্ট্রাকচার, এমইএমএস ইলেক্ট্রোপ্লেটিং প্রক্রিয়া
ন্যানোমেটরিয়ালস এবং পাতলা ফিল্ম গবেষণা: সোল্জেল সাবস্ট্রেট, ন্যানোমেটরিয়াল বৃদ্ধি এবং চরিত্রায়ন
মাইক্রোস্কোপ এবং প্রোব মেট্রোলজি: এসইএম, এএফএম এবং অন্যান্য স্ক্যানিং প্রোব মাইক্রোস্কোপির অ্যাপ্লিকেশন
জৈব/রাসায়নিক প্ল্যাটফর্ম: কোষ সংস্কৃতি, প্রোটিন/ডিএনএ মাইক্রোঅ্যারি, রিফ্লেক্টমেট্রি সাবস্ট্র্যাট, সেন্সিং প্ল্যাটফর্ম
চমৎকার সংযুক্তিটিআই ইন্টারলেয়ার দ্বারা সক্ষম
উচ্চ পরিবাহিতাএবং অভিন্ন Cu পৃষ্ঠ
বিস্তৃত নির্বাচনওফারের আকার, প্রতিরোধের পরিসীমা এবং দৃষ্টিভঙ্গি
নমনীয় কাস্টমাইজআকার, স্তর, ফিল্ম স্ট্যাক এবং বেধের জন্য
স্থিতিশীল, পুনরাবৃত্তিযোগ্য প্রক্রিয়াপরিপক্ক স্পট্রিং প্রযুক্তি ব্যবহার করে
প্রশ্ন ১ঃ Cu লেপের নিচে Ti স্তর কেন ব্যবহার করা হয়?
উঃ টাইটানিয়াম একটিআঠালো (বন্ডিং) স্তর, সাবস্ট্র্যাটে তামার সংযুক্তি উন্নত করে এবং ইন্টারফেস স্থিতিশীলতা বৃদ্ধি করে, যা হ্যান্ডলিং এবং প্রক্রিয়াকরণের সময় পিলিং বা ডিলেমিনেশন হ্রাস করতে সহায়তা করে।
প্রশ্ন ২ঃ টিআই/সিইউ বেধের সাধারণ কনফিগারেশন কী?
উঃ সাধারণ সংমিশ্রণগুলির মধ্যে রয়েছেটিআইঃ কয়েক ডজন এনএম (উদাহরণস্বরূপ, ১০৫০ এনএম)এবংCu: 50 ¢ 300 nmস্পটারযুক্ত ফিল্মের জন্য। ঘন Cu স্তর (μm- স্তর) প্রায়ই দ্বারা অর্জন করা হয়একটি স্পটারযুক্ত Cu বীজ স্তর উপর electroplatingআপনার আবেদন অনুযায়ী।
প্রশ্ন ৩: আপনি কি ওয়েফারের উভয় দিকই লেপ দিতে পারেন?
উঃ হ্যাঁ।একপাশের বা ডাবল-পার্শ্বযুক্ত লেপঅনুরোধে পাওয়া যায়। দয়া করে অর্ডার করার সময় আপনার প্রয়োজনীয়তা নির্দিষ্ট করুন।