8/6/4/2 ইঞ্চি এলপিসিভিডি অক্সিডেশন ফার্নেস সম্পূর্ণ স্বয়ংক্রিয়তা নিম্ন অক্সিজেন নিয়ন্ত্রণ পাতলা ফিল্ম অবতরণ

অন্যান্য ভিডিও
April 27, 2025
ভিডিও বর্ণনা:
Discover the 8/6/4/2Inch LPCVD Oxidation Furnace, a fully automated system for thin film deposition with low oxygen control. Ideal for semiconductor manufacturing, it ensures excellent film uniformity and repeatability, supporting various oxidation, annealing, and LPCVD processes. Perfect for high-volume production with seamless MES integration.
সংশ্লিষ্ট ভিডিও